電子級多晶硅還原爐鐘罩內部清洗要求及清洗方式
時間:2024-11-25 15:41:00作者:LeeZhou來源:德高潔清潔設備分享到:QQ空間新浪微博騰訊微博人人網微信
多晶硅分太陽能級和電子級兩大類,電子級多晶硅是目前最高純度等級的多晶硅產品,主要作為硅片及芯片等生產的原材料,是集成電路產業(yè)的核心關鍵基礎原料。電子級多晶硅的純度要求則為99.9999999%~99.999999999%,即(9N到11N),電子級多晶硅的高純度要求相當苛刻,如5000噸的電子級多晶硅中總的雜質含量僅相當于一枚1元硬幣的重量。
由于多晶硅純度會嚴重影響到單晶硅拉制環(huán)節(jié),所以電子級多晶硅雜質含量要求更為苛刻,電子級多晶硅生產廠家在工藝流程、設備維護、產品運輸等多方面進行提升,以提高企業(yè)的競爭力度。而在電子級多晶硅改良西門子法生產工藝中,還原爐是整個多晶硅生產系統(tǒng)的“心臟”部件,也是影響實際產量最核心的工藝環(huán)節(jié),生產出來的多晶硅質量的優(yōu)劣取決于它,因此還原爐鐘罩內壁的清潔度直接影響最終產品的質量,同時,作為多晶硅的生產電耗比重首位的熱沉積反應器,其內壁的光潔可以有效降低還原電耗,所以在電子級多晶硅生產過程中,多晶硅還原爐鐘罩內部清潔至關重要。
一、電子級多晶硅還原爐鐘罩清洗要求
1、潔凈度要求
清洗過程中要確保潔凈度達到電子級別的標準,這通常意味著要徹底去除鐘罩表面的所有塵埃、污垢和任何可能對硅片產生負面影響的雜質。
2、避免化學污染
清洗過程中使用的化學品必須是高純度的,并且不得留下任何殘留物。使用去離子水(DI水)等高純度水源是必要的,以避免引入任何額外的離子或雜質。
3、溫度控制
清洗過程中的溫度應該在適當的范圍內,以確保清洗劑的有效性,并防止對設備產生不良影響。同時,溫度控制也有助于防止在清洗過程中產生的水汽對設備腐蝕。
4、機械清洗
對鐘罩表面的機械清洗應該是適用而徹底的,以在不傷害其內部表面結構的情況下,去除附著在表面的任何顆粒或雜質。
5、避免靜電
電子級多晶硅生產對靜電敏感,在清洗過程中要注意避免靜電的產生。
6、實時監(jiān)測和控制
清洗過程中要實時監(jiān)測清洗效果,確保達到規(guī)定的潔凈度標準。
7、設備保養(yǎng)
清洗設備本身也需要定期保養(yǎng),以確保其正常運行且不會引入額外的污染。
8、符合行業(yè)標準
清洗過程應符合相關的行業(yè)標準和規(guī)范,以確保清洗的效果和可重復性。
在進行電子級多晶硅還原爐鐘罩清洗時,以上要求都是為了確保最終生產的硅片符合高純度和高質量的要求。這些要求有助于避免因為鐘罩表面殘留的污染物而引入缺陷,從而影響電子級多晶硅硅片的生產質量,應對于以上的清洗要求,普通的還原爐鐘罩清洗方式處理速度慢、清洗質量不均勻,且整體自動化程度低;因此需要一種高效、快速、自動化程度高的多晶硅還原爐鐘罩內壁清洗方式。
二、電子級多晶硅還原爐鐘罩高效清洗方式
德高潔高壓水電子級多晶硅還原爐鐘罩清洗系統(tǒng),由高壓熱水清洗系統(tǒng)、熱風凈化烘干系統(tǒng)、控制系統(tǒng)等組成,系統(tǒng)操作簡單,自動化程度高,整個清洗工藝包含:還原爐鐘罩到位→預清洗→清洗劑(堿液)清洗→漂洗→高壓純水沖洗→凈化熱空氣干燥→常溫干燥→鐘罩吊走,全程僅需人工輔助作業(yè),解決傳統(tǒng)人工清洗不安全、不環(huán)保、清洗效果差、自動化程度低、效率不高的缺陷。
采用PLC+觸摸屏柔性自動控制系統(tǒng),能實現對還原爐鐘罩的自動清洗和烘干,清洗烘干時間、溫度、清洗、漂洗等工藝參數可以根據需要自行調整設定,同時具有半自動或手動功能。一次吊裝在一個工作臺上完成全部清洗、烘干過程,可實現遠程對樓下設備的控制和主要參數監(jiān)控。
全密閉式清洗烘干系統(tǒng),清洗時采用高壓水三維立體清洗技術,以水力自驅動三維洗罐器為噴頭,形成360° 3D形式的網狀噴射來完成爐筒內部表面的水力掃射,實現內部無死角清洗,以水為清洗介質可有效避免靜電的產生,清洗后旋轉和升降清洗吹干執(zhí)行機構,根據還原爐每個視孔鏡相對原點的相對位置進行準確定位,可自動切換不同清洗液及吹干,通過控制系統(tǒng)可對清洗、吹干時間等進行調整,清洗時只需一鍵操作即可,操作簡單方便。
在整個還原爐的清洗過程中,清洗、干燥中筒內形成微負壓狀態(tài),防止清洗外溢,清洗后的廢水廢氣處理系統(tǒng)可使污染物(廢氣、廢水等)在受控的條件下,按設計出口排放,基本消除了對現場及操作人員的污染。
德高潔高壓水電子級多晶硅還原爐鐘罩清洗系統(tǒng),其核心部件、元件和附件原裝進口保證了電子級多晶硅鐘罩清洗系統(tǒng)性能的可靠,可以在一套系統(tǒng)實現多種型號鐘罩的清洗烘干。除此之外,根據還原爐底部法蘭的結構特殊設計升級后的清洗工作臺,不僅可以滿足對內壁和視孔鏡的清洗,同時也滿足了底部法蘭的清洗?蓪崿F對法蘭內邊緣的清洗,保證整個法蘭底部都被清洗液覆蓋,并清洗、吹干。
目前,德高潔在多晶硅還原爐清洗行業(yè)已擁有國內90%的用戶,為多晶硅行業(yè)提供了幾十套還原爐清洗系統(tǒng),如您有需求歡迎電話咨詢,德高潔將竭誠為您服務。
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一、電子級多晶硅還原爐鐘罩清洗要求
1、潔凈度要求
清洗過程中要確保潔凈度達到電子級別的標準,這通常意味著要徹底去除鐘罩表面的所有塵埃、污垢和任何可能對硅片產生負面影響的雜質。
2、避免化學污染
清洗過程中使用的化學品必須是高純度的,并且不得留下任何殘留物。使用去離子水(DI水)等高純度水源是必要的,以避免引入任何額外的離子或雜質。
3、溫度控制
清洗過程中的溫度應該在適當的范圍內,以確保清洗劑的有效性,并防止對設備產生不良影響。同時,溫度控制也有助于防止在清洗過程中產生的水汽對設備腐蝕。
4、機械清洗
對鐘罩表面的機械清洗應該是適用而徹底的,以在不傷害其內部表面結構的情況下,去除附著在表面的任何顆粒或雜質。
5、避免靜電
電子級多晶硅生產對靜電敏感,在清洗過程中要注意避免靜電的產生。
6、實時監(jiān)測和控制
清洗過程中要實時監(jiān)測清洗效果,確保達到規(guī)定的潔凈度標準。
7、設備保養(yǎng)
清洗設備本身也需要定期保養(yǎng),以確保其正常運行且不會引入額外的污染。
8、符合行業(yè)標準
清洗過程應符合相關的行業(yè)標準和規(guī)范,以確保清洗的效果和可重復性。
在進行電子級多晶硅還原爐鐘罩清洗時,以上要求都是為了確保最終生產的硅片符合高純度和高質量的要求。這些要求有助于避免因為鐘罩表面殘留的污染物而引入缺陷,從而影響電子級多晶硅硅片的生產質量,應對于以上的清洗要求,普通的還原爐鐘罩清洗方式處理速度慢、清洗質量不均勻,且整體自動化程度低;因此需要一種高效、快速、自動化程度高的多晶硅還原爐鐘罩內壁清洗方式。
二、電子級多晶硅還原爐鐘罩高效清洗方式
德高潔高壓水電子級多晶硅還原爐鐘罩清洗系統(tǒng),由高壓熱水清洗系統(tǒng)、熱風凈化烘干系統(tǒng)、控制系統(tǒng)等組成,系統(tǒng)操作簡單,自動化程度高,整個清洗工藝包含:還原爐鐘罩到位→預清洗→清洗劑(堿液)清洗→漂洗→高壓純水沖洗→凈化熱空氣干燥→常溫干燥→鐘罩吊走,全程僅需人工輔助作業(yè),解決傳統(tǒng)人工清洗不安全、不環(huán)保、清洗效果差、自動化程度低、效率不高的缺陷。
采用PLC+觸摸屏柔性自動控制系統(tǒng),能實現對還原爐鐘罩的自動清洗和烘干,清洗烘干時間、溫度、清洗、漂洗等工藝參數可以根據需要自行調整設定,同時具有半自動或手動功能。一次吊裝在一個工作臺上完成全部清洗、烘干過程,可實現遠程對樓下設備的控制和主要參數監(jiān)控。
全密閉式清洗烘干系統(tǒng),清洗時采用高壓水三維立體清洗技術,以水力自驅動三維洗罐器為噴頭,形成360° 3D形式的網狀噴射來完成爐筒內部表面的水力掃射,實現內部無死角清洗,以水為清洗介質可有效避免靜電的產生,清洗后旋轉和升降清洗吹干執(zhí)行機構,根據還原爐每個視孔鏡相對原點的相對位置進行準確定位,可自動切換不同清洗液及吹干,通過控制系統(tǒng)可對清洗、吹干時間等進行調整,清洗時只需一鍵操作即可,操作簡單方便。
在整個還原爐的清洗過程中,清洗、干燥中筒內形成微負壓狀態(tài),防止清洗外溢,清洗后的廢水廢氣處理系統(tǒng)可使污染物(廢氣、廢水等)在受控的條件下,按設計出口排放,基本消除了對現場及操作人員的污染。
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